首页
热点
百科
娱乐
科技
资讯
药品
美容
登录
标签
Low
泛林公布干式光刻胶进展:可在后道工艺实现 28nm 间距直接图案化
IT之家 1 月 26 日消息,泛林集团 Lam Research 美国加州当地时间本月 14 日宣布,其干式光刻胶技术成功通过 imec 认证,可直接在逻辑半导体后道工艺(IT之家注:BEOL,互联层制作)…
能力
imec
Low
干式
Lam
fjmyhfvclm
10天前
21
0