金融界2025年2月3日消息，国家知识产权局信息显示，捷普科技（武汉）有限公司取得一项名为“分光片及光功率监测系统”的专利，授权公告号CN 222420677 U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本实用新型提供的分光片，包括抗反射层及反射抑制层，该抗反射层位于分光片的出射面侧，用于减少对进入分光片的入射光线的光线反射；该反射抑制层位于由抗反射层所反射的反射光线的反射路径上，用于抑制所述抗反射层所反射的反射光线。上述分光片，可以在实现对入射光进行分光的同时，减少由于反射光造成的偏振相关损耗以及波导色散损耗。
天眼查资料显示，捷普科技（武汉）有限公司，成立于2005年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本7785万人民币，实缴资本7785万人民币。通过天眼查大数据分析，捷普科技（武汉）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，知识产权方面有商标信息2条，专利信息59条，此外企业还拥有行政许可15个。
